技术特点
- 可选配大功率光源405nmLD、355nmDPSSL（Dpssl355nm激光光源寿命大于20000幼时）
- 尺度支持12英寸幅面基板，其他幅面可定造
- 多维光刻(偏振曝光、过问曝光、1024阶3D曝光)
- 高精密工件台
- 高精度环控系统
- 自动聚焦，实时对准
- 分区定位，多基片，多工作曝光
- 支持自动与手动对准
- GDSII、BMP、STL等文件体式支持
规格参数
* 具体指标因工艺差距有所分歧
利用示例
数字化光刻
高端仪器设备
MiScan 高效混合直写光刻系统